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“您過獎了。”吳浩連忙謙虛道。
衆人笑了笑，隨即有現場嘉賓出聲道：“那麼它相比於傳統芯片又有什麼缺點呢，能不能取代現有的硅基芯片。”
聽到這個問題，現場立即安靜下來。這個問題很尖銳，也很敏感。今天正是光刻機發布面世的大日子，在這樣的日子裡面提出這樣一個問題，這讓人不由懷疑這位嘉賓是不是來找茬的。
所以衆人在看了一眼這位專家後，隨即將目光轉移到吳浩身上，想要聽聽他的回答。
不，吳浩非常淡定的露出笑容，搖了搖頭道：“光子芯片並不能代替現有的硅基芯片，尤其是這種7納米以上製程的高性能芯片。
這並非是因爲性能達不到，而是因爲光子芯片因爲其原理限制，所以目前我們無法做到像硅基芯片尺寸大小的芯片。
並且光子芯片容易受環境的影響，使用方面也有相關的要求。目前來說，它最大的使用途徑還是在超級計算機，大型計算機，服務器，還有主機上面使用。
像這類5納米制程的芯片所廣泛應用到的數碼產品領域，這種光子芯片是無法運用的。”
聽到吳浩的回答，現場衆人都點了點頭紛紛露出了笑容。吳浩並沒有迴避和敷衍回答這個問題，而是給了非常清晰明確的回答。而且回答的結果也讓衆人吃了一顆安心丸，那就是這種光子芯片是無法取代這種先進製程的硅基芯片的。
“各有各的優勢嘛，我們需要在各個領域全面開花。這樣我們才能不受制於人，我們才能最大程度的解放生產力，促進我們國家的科技和經濟發展。
而它所直接帶來的則是我們國家綜合國力的提升，這一點非常重要。”領導總結了一番，隨即看向一邊的袁守義問道：“想這樣的先進的光刻機，你們的年產量能達到多少。”
見領導提問，袁守義隨即回答道：“今年我們預計將會試生產交付三臺同等規格的EUV光刻機，明年我們會對生產製造工藝進行一番優化和提升，並對生產製造過程中的一些問題進行解決，屆時我們的年產量預計能夠達到十臺左右。
並且隨着技術和生產製造工藝的不斷提升，這個數字還能增加，預計我們將在三年內實現年產量十五臺到二十臺這樣的產量。”
“少了。”聽到袁守義的話，領導隨即搖頭道：“我們國內對於芯片的需求量巨大，每年要向海外企業支付鉅額的芯片採購費用。
因此這一塊市場很大，並且發展前景非常廣闊。我覺得你們完全可以放下顧慮，放開手腳，全力生產。
在這塊我可以給你個承諾，國家將會進一步加大對於像你們這樣致力於尖端關鍵技術設備研發和製造企業的扶持力度，稅收方面全面減免，並且基於你們相關的資助和補貼，政策方面先行從優，全面放寬。
至於你們擔心的產量過剩問題，這一塊也不用擔心，由國家來接盤。
你們要意識到，目前不止我們國家缺少先進的光刻機設備，世界其它各國國家都需要。因此這一塊市場非常的大，眼光要放長遠點。”
“謝謝領導！”衆人聞言紛紛露出興奮的笑容。這對於他們來說絕對是好事，不僅是相關政策稅收減免扶持方面，還有領導所承諾的接盤保底措施，這可以說爲他們解決了後顧之憂。
說完這些，領導有忍不住關心的詢問起來：“這臺光刻機什麼時候能夠投入生產，多長時間能夠滿足我們國家對於高端芯片需求的缺口。”
聽到這個問題，一直陪同的老馬開口說道：“馬上這臺光刻機就會被運往蜀都，我們在那裡新建了一座大型的晶圓廠。這座晶圓廠不僅僅能夠生產製造晶圓，而且還能生產製造芯片。
這座晶圓廠我們計劃一期工程完工並且投入生產後，年生產芯片將達到五千萬片以上。屆時，將能夠暫時緩解我們國內高端芯片緊缺的局面。並且幫助相關的企業擺脫海外的限制以及套在脖子上面的枷鎖，讓他們能夠逐漸恢復正常。
二期工程我們計劃將這個產量再提升一倍，解釋將有效解決我們國家芯片緊缺的現狀，並使得我們國家在高端芯片領域逐漸實現自主化，擺脫對於海外的依賴。
如果一切順利的話，整個過程將持續五年時間，我們有信心在五年內達計劃目標要求。”
“好，大膽放手去幹。在這塊，有國家爲你們全程保駕護航着呢。”領導露出了高興的笑容道。
這樣的回答的確很提氣，雖然需要五年時間，但對於這麼大一個項目和工程來說，它並不算長，甚至可以說已經是非常快了。
再說，這麼多年都熬過來了，還差這五年時間嗎。
說想到這，領導的臉色的笑容更勝，然後衝着衆人問道：“什麼時候我們能夠實現三納米，甚至兩納米的光刻機技術。”
聽到這個問題，袁守義想了一下，然後回答道：“想要實現三納米甚至是兩納米的生產工藝，主要還是在光源上面，這一點還是要看吳總他們的那邊的進度。”
哦，衆人聞言都看向了吳浩。
呵呵，面對衆人的目光，吳浩笑着說道：“主要還是複合式透鏡組的精度，精度越高，極紫外光的波長也就越短，對於光線的控制也就越精準，所生產出來的芯片製程也就越高。
當然了，光刻機技術的發展不止是光源和透鏡組這一塊，還要其它一系列技術的發展和進步。簡單來說，這就是一個複雜的系統性工程，需要各方面全面發展才行。
對於我們來說，現階段我們要做的一方面是加強對於現階段5納米制程EUV光刻機的生產，使其能夠滿足我們國內芯片製造領域的發展和需求，解決芯片緊缺這個緊要問題。
雖然說相比於目前國際先進的3納米和2納米芯片還有一定的差距，但這個差距其實並不大。就現階段來說，完全可以滿足我們相關企業對於高端芯片的需求。
而另一方面，我們也需要吃透和消化5納米制程EUV光刻機研製成功經驗，爲下一步研發更高製程EUV光刻機奠定基礎。”